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半導體拋光液 鈮酸鋰LiNbO3晶圓拋光液
磨料類型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:專利化學配方/可定制
- 精密陶瓷拋光液 CMP納米級拋光液
- 吉致電子·精密陶瓷件拋光液·半導體拋光液
產(chǎn)品名稱:氧化鋯拋光液/氧化鋁拋光液/氮化硅拋光液/氮化鋁拋光液
產(chǎn)品特點:適用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的鏡面拋光
- SiC碳化硅襯底研磨拋光產(chǎn)品
- 吉致電子·碳化硅研磨拋光·半導體晶圓拋光
產(chǎn)品名稱:碳化硅研磨液/碳化硅拋光液/碳化硅SIC研磨墊/Sic精拋墊
產(chǎn)品特點:Politex拋光墊FUJIBO拋光墊國產(chǎn)替代
- 半導體拋光液 淺溝槽隔離拋光液 STI拋光液
- 產(chǎn)品名稱:淺槽隔離拋光液/STI拋光液/淺溝槽隔離化學機械拋光液
磨料類型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:10-150nm/全粒徑可定制
鈮酸鋰拋光液/研磨液·參數(shù)吉致電子,CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
產(chǎn)品名稱:鈮酸鋰拋光液,鈮酸鋰晶圓拋光漿料,鈮酸鋰研磨拋光液,LN拋光液
產(chǎn)品簡介:為半導體行業(yè)/鈮酸鋰晶體晶圓制備的化學機械拋光液/Slurry組合漿料,適用于LiNbO3精密/超精密領域的平坦化高效加工。設計滿足鈮酸鋰(LiNbO3)晶圓提高材料去除率,降低表面粗糙度,獲得超光滑表面。
吉致電子鈮酸鋰拋光液特點——
1.用于大規(guī)模制造LiNbO3晶片的高性能CMP拋光漿料。
2.經(jīng)特殊工藝合成,納米顆粒呈球形,單分散,大小均勻,粒徑分布窄,可獲得高質(zhì)量的拋光精度。
3.實現(xiàn)高去除率,無亞表面損傷,并提供出色的穩(wěn)定性。
4.PH、粒徑、穩(wěn)定離子等可以根據(jù)要求定制。
5.適合與各種拋光墊配合拋光使用。
吉致電子鈮酸鋰拋光漿料LN Slurry應用
為光學表面提供高光潔度
拋光相關類型的表面(研磨或機械拋光)以實現(xiàn)原子級光滑的表面光潔度
吉致電子鈮酸鋰(LiNbO3)晶體拋光液 廣泛應用于CMP領域,包括Lapping機、五軸機臺、以及其他研磨拋光機臺等
鈮酸鋰晶圓拋光液拋光過程中具有:
從我們的優(yōu)化解決方案能實現(xiàn)高去除率,無亞表面損傷,同時提供優(yōu)異的穩(wěn)定性。
吉致電子鈮酸鋰晶圓拋光液/LiNbO3Slurry拋光液儲存方法:
1.貯存時應避免曝曬,貯存溫度為5-35℃
2.低于0℃以上儲存,防止結(jié)冰,在無度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。
3.避免敞口長期與空氣接觸。
吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價格:
吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術是引進國外生產(chǎn)技術和設備,特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進口同類產(chǎn)品。
本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快,品質(zhì)好,拋光液價格實惠親民。
吉致電子CMP拋光耗材適用范圍
吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進的生產(chǎn)設備,為不銹鋼、銅、鋁、塑膠、陶瓷、導光板、五金產(chǎn)品、藍寶石、光學玻璃等各類拋光加工服務。為您提供可靠有效的拋光解決方案!
吉致電子研發(fā)團隊--15年經(jīng)驗CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!
無錫吉致電子科技有限公司
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