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半導體硅片拋光液 Si Wafer Slurry

產(chǎn)品分類(lèi): 拋光液
    吉致電子·硅片拋光液·半導體晶圓cmp拋光液·Si Slurry
    產(chǎn)品名稱(chēng):硅片拋光液/硅晶圓拋光研磨/半導體晶圓研磨拋光
    產(chǎn)品特點(diǎn):用于8-12”Wafer大硅片及再生晶圓的CMP粗拋、中拋、精拋,減少晶圓表面的不平整。達到半導體高質(zhì)量晶片的組裝工藝要求。
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      硅片SI拋光液·參數

      可定制·速率高·效果好·專(zhuān)利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

      硅片拋光液 吉致電子SI拋光液

      產(chǎn)品名稱(chēng):硅片拋光液/硅晶圓拋光研磨/半導體晶圓研磨拋光/Si Wafer Slurry

      硅片拋光液作用: 于8-12”Wafer大硅片及再生晶圓的CMP粗拋、中拋、精拋,減少晶圓表面的不平整。達到半導體高質(zhì)量晶片的組裝工藝要求。

      8-12”Wafer大硅片及再生晶圓拋光液具有:

      1、高去除速率且除速率穩定。

      2、循環(huán)性好、稀釋比高、低表面粗糙度。

      3、精拋光液低顆粒殘留、低表面粗糙度、低Haze值、低金屬離子含量。

      *可以依客戶(hù)不同工藝要求,提供定制化服務(wù)

      *提供全套解決方案,及免費安排工程師上門(mén)服務(wù)

      利用吉致電子CMP拋光設備和研磨液/拋光液對半導體晶圓表面進(jìn)行研磨拋光加工,使硅片、晶圓等工件表面粗糙度降低,以獲得光亮、平坦表面的。

      吉致電子Si Slurry適用于大硅片及再生晶圓的拋磨,可達到優(yōu)良的表面平坦度,拋光速率快、良率高、表面均一無(wú)缺陷。

      硅片拋光液


      吉致電子半導體硅片拋光液儲存方法:

      通風(fēng),陰涼,干燥的庫房,本品需在5-35℃儲存,防止陽(yáng)光直射及凍結,零度以下因產(chǎn)生不可再分散結塊而失效。

      吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價(jià)格:

      吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國外生產(chǎn)技術(shù)和設備,特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類(lèi)產(chǎn)品。

      本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快,品質(zhì)好,拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。

      吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

      吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進(jìn)的生產(chǎn)設備,為金屬鉬、不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導光板、五金產(chǎn)品、藍寶石、光學(xué)玻璃等各類(lèi)拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案!


      吉致電子研發(fā)團隊--15年經(jīng)驗CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!

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